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光刻机的龙头10年仅投入6亿?是ASML的1/78,华为:我自己来吧!

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gaimy 发表于 2021-10-15 09:36:09 | 显示全部楼层 |阅读模式 打印 上一主题 下一主题
 
众所周知,光刻机是作为制作芯片的主要工具。而上海微电子是我国产半导体的龙头企业,其负责的193nm ArF准分子激光的干式和浸没式DUV光刻机(用于28nm芯片制造)的量产时间却一拖再拖。根本就交不出货,
            
为什么交不出货,按照当时规定的,应该在2020年就要攻克28nm的难关,但是,从目前掌握的消息看,能在2021年攻克的几率已经不大了,2022年是否能够量产依然是个未知数。
            
这里就要反问一句,为什么DUV光刻机会产生这么大的延迟?其中有两个
            
第一是其配套的研究机构都有或多或少地延迟,第二则是钱的问题,上海微电子投入的研究经费太少了,10年才投6个亿,平均一年只有6000万的研发费用,这在光刻机领域来说,就是一粒沙掉进了海中!
            
            
            
和国际上的光刻机巨头企业ASML比较,他们在EUV光刻机的投入高达470亿元,是上海微电子投入的78倍;然而人家卖一台EUV光刻机的钱就要7.7亿元,换句话说,ASML的一台EUV光刻机的售价比上海微电子10年的研发费用要高。这句话是不是很讽刺,然而,事实就是这样,我们越缺的东西,投入的资金还更少!
            
            
            
研发投入对于企业的重要意义非常大,华为为什么能在5G领域取得全球领先地位?最重要的一点就是其每年高达15%以上的研发投入占比,在2020年研发投入占比更是创下新高的1418亿。在遇到芯片禁令之后,华为已经处于生死存亡的关键时刻,因此不得不考虑进入芯片制造领域。
            
            
            
可以说是“逼上梁山”,然而,不可否认的是,这的却是给了华为很大的压力,才让华为能在这种处境中疯狂提升!

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